Ito表面化学镀镍镀金前表面清洁的方法
【专利摘要】一种在ITO表面化学镀镍镀金前表面清洁的方法，其特征是将氟化铵、氟化氢铵及缓冲剂按一定比例混溶于去离子水中配成清洁溶液，基片用夹具装夹后浸没于清洁溶液中，根据基片表面污染程度选择合适的浸没时间，彻底去除ITO表面引线间玻璃上的污染物并使ITO刚刚露出新鲜的表面。这样清洁处理后再在ITO表面进行镍层和金层沉积时，镍层和金层只沉积于ITO表面，而在其它地方无法沉积，这就消除了因基片表面污染而造成的产品缺陷问题，大大提高了采用化学镀镍镀金方法制造Sensor产品的良率。同时因镍层和金层是沉积于新鲜的ITO表面，而非脏或异物表面，这样镍层和金层与ITO之间的结合力非常强，不会产生镍层和金层与ITO之间脱落问题，产品使用的耐久性可以得到保证。
【专利说明】ITO表面化学镀镍镀金前表面清洁的方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及一种触摸屏生产方法，尤其是一种生产过程中使用的清洁方法，具体地说是一种ITO表面化学镀镍镀金前表面清洁的方法。
【背景技术】
[0002]电容式触控屏主流生产工艺是用磁控溅射的方法在ITO表面制造钥铝钥金属层。钥铝钥ITO镀膜玻璃是在真空状态下以磁控溅射的方法在玻璃正反表面镀上ITO导电膜，然后再在浮法面镀上钥、铝、钥金属膜层。其主要特性膜层接全力强，玻璃表面均匀好，在可见光内反射光强。但此种工艺设备投资大，生产效率也有待提高。
[0003]日本美禄德公司开发了一种用化学镀镍镀金工艺在ITO表面沉积镍层和金层来制造电容触控屏Sensor的方法，此方法生产工艺简单，设备投资也很少。其生产工艺为脱脂一二次去离子水清洗一微蚀一二次去离子水清洗一催化一二次去离子水清洗一活化一二次去离子水清洗处理一化学镀镍一二次去离子水清洗一化学镀金一二次热去离子水清洗。制造Sensor的玻璃从ITO镀膜到刻蚀好ITO引线生产过程中表面不可避免地会受到各种污染，美禄德公司提供的工艺中其脱脂工艺只能去除轻微的油脂污染，对其它污染物基本去除不掉。如果在镀镍镀金前不去除玻璃表面的污染物及露出新鲜的ITO表面，镍层和金层沉积时失去选择性，会在ITO表面和受到污染的玻璃表面都沉积上镍层和金层，且镍层和金层与ITO之间的附着力会很差，则Sensor制造失败。因此在脱脂工艺前增加一道清洁基片表面的工艺必不可少。
[0004]合适的清洗溶液有`以下几点要求；
I)清洁溶液对玻璃及ITO表面的刻蚀具有一定的选择性，即刻蚀玻璃表面与ITO表面的化学反应速率相差5倍以上。这样用清洁溶液处理基片时玻璃表面的脏及异物可以被彻底去除，而ITO表面则只发生了轻微的刻蚀反应，刚刚露出新鲜的ITO表面而已。
[0005]2)所配的清洁溶液刻蚀玻璃表面的化学反应速率可控，不能太快或太慢；清洁溶液同时要满足基本对ITO下方的玻璃不产生侧向刻蚀。
[0006]3)所配的清洁溶液中需含有缓冲剂，这样在处理一定数量基片时清洁溶液对玻璃表面的刻蚀速率可以基本保持一致，避免生产中需频繁调整清洁液浓度。
